G.652及G.653、G.654单模光纤（第二、三窗口）
1982-1992年是G.652及G.653、G.654单模光纤的大规模应用期，打开了光纤的第二窗口（1310nm）和第三窗口（1550nm）。
1973-1977年，世界各大光纤制造商开发了各种先进的预制棒生产工艺——康宁开发出OVD技术；日本的NTT、住友、古河、藤仓等联合开发出VAD技术；朗讯改善了MCVD技术；荷兰菲力浦开发了PCVD技术。
1982年，由美国开始，日、德等国家紧跟，全球开始大量建设G.652单模光纤长途工程。单模光纤的市场需求大增，刺激了大规模生产。这时，康宁的OVD进一步提高了沉积速率，VAD、MCVD、PCVD都外加套管来作为增大预制棒的措施。此后，各家都照着两步法的混合工艺来加大预制棒。
90年代，法国阿尔卡特开发了APVD技术（MCVD+等离子喷涂工艺）。各大光纤制造商制造技术的重大进步，为常规单模光纤的广泛应用创造了更好的条件。1984年，第三窗口（1550nm）开始启用。同年，CCITT（国际电报电话咨询委员会）发布G.651和G.652标准。到1985年，G.652光纤1310nm的损耗已达0.35dB/km，1550nm的损耗已达0.21dB/km。
1985年，日本、美国研发的G.653色散位移光纤商用化，其特点是把零色散点从第二窗口移到第三窗口，1550nm波长不仅损耗最低，而且色散也最小。1988年，CCITT发布G.653标准。此光纤大量用于日本的通信干线。
90年代初，掺铒光纤放大器（EDFA）开始商用化，促使密集波分复用（DWDM）提上议事日程。但是，G.653光纤在1550nm波长处的零色散，造成DWDM系统波道间的非线性干扰十分严重，因而没在世界上推广开来。
1995年，我国建设京九光缆工程，24芯纤中用了六根G.653光纤，一直没开通。以后，我国也没用G.653光纤。这一时期，还产生了一种截止波长移位的光纤。它在1550nm处不但损耗低，而且微弯损耗小，适合使用光放大器的长途干线系统和海底光缆系统。1988年，CCITT发布G.654标准。
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